OXYLINE

Référence : X210VFFP2RD

APPLICATION
Le demi-masque à filtre X 210 V FFP2 R D est destiné à la protection du système respiratoire contre les aérosols de particules, les aérosols à base d’eau (poussière, fumée) et les aérosols à phase dispersée liquide (brouillard) pour lesquels la CMA est ≥0,05 mg/m3 tant que la concentration de la phase dispersée ne dépasse pas 10 x CMA.

Exemples d’application : solides moyennement toxiques, amiante, cuivre, baryum, titane, vanadium, chrome, manganèse, poussière de bois dur, poussière de charbon contenant plus de 10 % de silice libre, exploitation minière, chimie, métallurgie, travail du bois dur.

Référence : X310SVFFP3RD

APPLICATION
Le demi-masque à filtre X 310 SV FFP3 R D est destiné à la protection du système respiratoire contre les aérosols de particules, les aérosols à base d’eau (poussière, fumée) et les aérosols à phase dispersée liquide (brouillard) pour lesquels la CMA est ≤ 0,05 mg/m3, tant que la concentration de la phase dispersée ne dépasse pas 30 x CMA.

Exemple d’application : concentration élevée de poussières respirables, utiliser pour le soudage et le brasage, protège contre les poussières contenantes : béryllium, antimoine, arsenic, cadmium, cobalt, nickel, radium, strychnine, particules radioactives.